Actualizado el 06 de junio de 2019

Conoce el resultado de las Becas Ibermuseos de Capacitación – Edición 2019

Banner_Site

Treinta solicitudes de becas de profesionales provenientes de 10 países – Argentina, Brasil, Chile, Colombia, Costa Rica, Ecuador, España, México, Perú y Uruguay – han sido seleccionadas en la edición 2019 de las Becas Ibermuseos de Capacitación – BICs, para la realización de actividades de capacitación y pasantías profesionales en nueve países de Iberoamérica.  Consulta la resolución final.

En total, 66 solicitudes de profesionales provenientes de 11 países fueron inscritas en esta edición de las BICs, que vienen siendo realizadas anualmente de forma continua por el Programa Ibermuseos, como forma de fomentar el intercambio profesional e interinstitucional, la ampliación de las capacidades técnicas y profesionales de los trabajadores de museos de Iberoamérica y como consecuencia, la mejora de la gestión de los museos de la región.

Las solicitudes fueron analizadas en dos etapas. La primera, en carácter eliminatorio consistió en la revisión de la documentación presentada en cumplimiento con los requisitos especificados en la convocatoria. La segunda, a la cual fueron sometidas apenas las solicitudes habilitadas, fue realizada por una comisión de especialistas provenientes de Brasil, España, Ecuador, Cuba, México, Portugal y Uruguay y consistió en la valoración de las solicitudes según los criterios de evaluación especificados en la convocatoria.

El resultado de las Becas Ibermuseos de Capacitación demuestra la importancia de esta iniciativa para los profesionales de la región. Su crecimiento exponencial a lo largo de sus cuatro ediciones y la diversificación de beneficiarios e instituciones atestiguan que las BIC son un mecanismo muy potente para la actualización y el fortalecimiento de las competencias de las personas que día a día construyen, desde su labor, el hacer de los museos.

Está utilizando un navegador obsoleto. Por favor actualice su navegador para ver este sitio correctamente.